SPIE Advanced Lithography + Patterning 2027 en San Jose

SPIE Advanced Lithography + Patterning reúne a ingenieros, investigadores y proveedores que trabajan en la frontera del patterning de semiconductores. Durante cinco jornadas se presentan sesiones técnicas sobre litografía óptica y ultravioleta extrema, materiales fotorresistentes, metrología, integración de procesos y las técnicas emergentes que sostienen el escalado de los chips. El programa convoca a grupos de investigación de la industria, la academia y los laboratorios nacionales, con ponencias, sesiones de póster, mesas redondas y cursos cortos. La exposición que acompaña pone en contacto a fabricantes de equipos, proveedores de materiales y empresas de metrología con los ingenieros que especifican y despliegan esas herramientas. Con sede en el San Jose McEnery Convention Center, en pleno Silicon Valley, el evento permite combinar trabajo técnico con reuniones de proveedores y conversaciones de reclutamiento. Quienes asisten suelen alojarse en el centro de San Jose, a poca distancia de la sede, y los hoteles cercanos al convention center se agotan rápido por la superposición de sesiones y el ritmo del piso de exposición.